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KQ-100TDB臺(tái)式高頻率數(shù)控超聲波清洗器

簡(jiǎn)要描述:KQ-100TDB臺(tái)式高頻率數(shù)控超聲波清洗器的主要特點(diǎn): 數(shù)顯記憶和設(shè)定的超聲工作時(shí)間、加熱溫度和實(shí)際溫度 數(shù)顯低水位、無(wú)溶液保護(hù)批示 清洗器的每個(gè)超聲換能器發(fā)射功率為80W 清洗器內(nèi)槽采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼板沖壓成形 數(shù)顯記憶和設(shè)定的超聲功率 數(shù)顯超溫度、超電壓、超電流保護(hù)指示 清洗器網(wǎng)架除KQ-80TDB、80TDE采用優(yōu)質(zhì)工程塑料之外,其余全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼網(wǎng)篩氬焊成形

  • 產(chǎn)品型號(hào):KQ-100TDB
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-07-18
  • 訪  問(wèn)  量: 3756

詳細(xì)介紹

KQ-100TDB臺(tái)式高頻率數(shù)控超聲波清洗器的技術(shù)參數(shù):
型號(hào) 儀器尺寸 清洗槽內(nèi)尺寸 容量 超聲頻率 超聲功率 功率可調(diào) 加熱功率 溫度可調(diào) 降音蓋 排水
長(zhǎng)×寬×高(mm) 長(zhǎng)×寬×高(mm) (L) (KHz) (W) (%) (W) (oC)
KQ-50TDB超聲波清洗器 208×192×210 150×140×100 2 60 50 40-99 200 20-80 無(wú) 無(wú)
KQ-100TDB超聲波清洗器 320×174×260 300×150×100 4 60 100 40-100 600 20-80 無(wú) 有
KQ-100TDV超聲波清洗器 410×260×330 300×150×130 5.8 60 100 40-100 600 20-80 有 有
KQ-200TDE超聲波清洗器 320×174×340 300×150×150 6 60 200 40-100 600 20-80 有 有
KQ-200TDV超聲波清洗器 410×350×380 300×150×180 8 60 200 40-100 600 20-80 有有
KQ-300TDB超聲波清洗器 320×264×320 300×240×150 10 60 300 40-100 600 20-80 無(wú) 有
KQ-300TDV超聲波清洗器 410×350×380 300×240×180 13 60 300 40-100 600 20-80 有 有
KQ-500TDB超聲波清洗器 530×320×360 500×300×150 22.5 60 500 40-100 1000 20-80 無(wú) 有
KQ-500TDV超聲波清洗器 610×410×380 500×300×180 27 60 500 40-100 1000 20-80 有 有
KQ-600TDB超聲波清洗器 530×320×360 500×300×150 22.5 60 600 40-100 1000 20-80 無(wú) 有
KQ-600TDV超聲波清洗器 610×410×380 500×300×180 27 60 600 40-100 1000 20-80 有 有
KQ-700TDB超聲波清洗器 530×320×360 500×300×150 22.5 60 700 40-100 1000 20-80 無(wú) 有
KQ-700TDV超聲波清洗器 610×410×380 500×300×180 27 60 700 40-100 1000 20-80 有 有
KQ-800TDB超聲波清洗器 530×320×360 500×300×150 22.5 80 800 40-100 1000 20-80 無(wú) 有
KQ-800TDE超聲波清洗器 530×320×380 500×300×150 22.5 80 800 40-100 1000 20-80 有 有
KQ-800TDV超聲波清洗器 610×410×380 500×300×180 27 80 800 40-100 1000 20-80 有 有

KQ-100TDB臺(tái)式高頻率數(shù)控超聲波清洗器簡(jiǎn)介:
超聲發(fā)生源與清洗槽為一體化,良好,國(guó)內(nèi)*。突破了幾十年來(lái)欻同的低頻,中頻。通過(guò)80KHz的高頻數(shù)控超聲清洗,能使工件上的細(xì)微污垢,頑固污垢得到*的清潔。本產(chǎn)品主要適用于商業(yè),輕工,大專院校對(duì)超聲液位,液溫精度,超聲頻率,超聲時(shí)間,超聲功率等高要求、高潔度的清洗,脫氣,消泡,乳化,混勻,置換,提取及細(xì)胞粉粹;是使用者的*選擇。

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